Spatial atomic layer deposition of electrically (non-)conductive gas diffusion barriers

von M.Sc. Lukas Hoffmann

Wuppertal, 23.04.2018

Online Monographie, Hochschulschrift, Elektronische Ressource - 1 Online-Ressource (XV, 148 Seiten)

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Hochschulschriften der Bergischen Universität Wuppertal [kostenfrei] (Volltext)

Titel:	Spatial atomic layer deposition of electrically (non-)conductive gas diffusion barriers
Verantwortlichkeitsangabe:	von M.Sc. Lukas Hoffmann
Autor/in / Beteiligte Person:	Hoffmann, Lukas
Körperschaft:	Bergische Universität Wuppertal
Lokaler Link:	Hochschulschriften der Bergischen Universität Wuppertal [kostenfrei] (Volltext) Hochschulschriften der Bergischen Universität Wuppertal [kostenfrei] (Volltext)
Link:	Verlag Langzeitarchivierung Nationalbibliothek
Verwandtes Werk:	Erscheint auch als: Druck-Ausgabe: Hoffmann, Lukas: Spatial atomic layer deposition of electrically (non-)conductive gas diffusion barriers
Veröffentlichung:	Wuppertal, 23.04.2018
Medientyp:	Monographie, Hochschulschrift
Datenträgertyp:	Elektronische Ressource
Umfang:	1 Online-Ressource (XV, 148 Seiten)
Sonstiges:	Online-Ressource [Kann nicht per Fernleihe bestellt werden!] Bergische Universität Wuppertal Dissertation, 2018 hbz Verbund-ID: HT019809161

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